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真空鍍膜設備的正常工作條件

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真空鍍膜設備的正常工作條件

發布日期:2017-12-16 作者: 點擊:

真空鍍膜設備主要指一類需要在較高真空度下進行的鍍膜,具體包括很多種類,包括真空離子蒸發,网上配资設備廠家磁控濺射,MBE分子束外延,PLD激光濺射沉積等很多種。


那麼,真空鍍膜設備的正常工作條件有哪些?我們一起来看看吧:

1、環境溫度:10~30℃

2、相對濕度:不大于70%

3、冷卻水進水溫度:不高于25℃

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4、冷卻水質:城市自来水或質量相當的水

5、供電電壓:380V,三相50Hz或220V,單相50Hz(由所用電器需要而定),電壓波动範圍342~399V或198V~231V,頻率波动範圍49~51Hz;

6、設備所需的壓縮空氣、液氮、冷熱水等壓力、溫度、消耗量均應在産品使用說明書上寫明。

7、設備周圍環境整潔、空氣清潔,不應有可引起電器及其他金屬件表面腐蝕或引起金屬間導電的塵埃或氣體存在。


此外,真空鍍膜設備所在實验室或車間應保持清潔衛生。地面为水磨石或木質塗漆地面、無塵埃。为防止機械泵工作時排出的氣體對實验室環境的污染,可采用在泵的排氣口上面裝設排氣管道(金屬、橡膠管)的辦法,将氣體排出室外。


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