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新技術 网上配资三種溶液的淨化

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新技術 网上配资三種溶液的淨化

發布日期:2016-10-29 作者:天添盈配资 點擊:

塑料粗化、鍍鉻銅合金抛光溶液新技術淨化

由于鍍鉻液、塑料网上配资前用的粗化液、銅及其合金的抛光液等容易因各種金屬離子的積累及三价鉻的不斷攀升而老化,使用性能大大下降,需進行淨化處理。用傳統處理方法,污染大,運行複雜,费用大。通過采用隔膜電解處理,可有效去除溶液的金屬雜質及多餘的三价鉻,采用专用助劑可有效去除特定離子如銅,多種方法結合既解決了污染問題又可節約生産成本。

鍍硬鉻時,为了提高鍍層與基體的結合力,需要對基體材料進行反向電流處理,一方面會有部分鐵随之溶解進入鍍液中,且鍍層厚度越厚,需要處理的強度越強,時間也越長,産生的金屬鐵離子也越多。随着時間的推移,金屬鐵離子的含量越来越高,此時鍍液的覆蓋能力越来越差,電壓也越来越高,電流效率随着下降,三价鉻含量也會上升。

裝飾鉻溶液中,由于多數采用含氟類添加劑,此類鍍液可以對底層的鍍鎳層等有效進行活化,以便于形成較为均勻的鍍鉻層。也正因为如此,活化溶解的鎳、銅或鐵等金屬離子也在鍍液中不斷積累,随之操作範圍也變得越来越窄,高電流區域易燒焦。通常也隻能通過去除部分鍍液,補充新配制鍍液的方法予以解決。未标題-1 拷貝.jpg

塑料网上配资,为了提高鍍層與基體的結合力,必須對塑料在网上配资前進行粗化處理,然後在此表面施塗一層導電層,如敏化、浸膠、化学鍍等。粗化過程,實際上是鉻酐對塑料的氧化腐蝕過程,粗化液中的鉻酸也相應由六价被還原成三价,含量逐漸降低,三价鉻含量逐漸升高,粗化液的處理效果也變得越来越差,當三价鉻≥35g/L粗化質量就很難保證了,此時隻得去除部分粗化液,随之補充部分新液或全部更換新液。

銅件抛光液中,金屬銅不斷溶解會使溶液中銅離子不斷升高,影響抛光質量,及抛光速度,这就需要對溶液進行部分或全部更換。

采用對老化溶液進行更換處理的方法,不但浪费大量的溶液,而且處理这些廢液也需大量成本,同時也會加重廢水處理的負擔。

为進一步提高此類溶液的利用率,部分企业采用不同的方法對其進行處理回用。大體上說,可分为以下幾種:離子交換法,沉澱法,隔膜電解法。

離子交換法主要是利用鉻酸溶液六价鉻是以陰離子的形式存在于溶液中的,而其它包括三价鉻在内的各種金屬離子一般均以陽離子的形式存在,因而要去除此類離子可選擇使用一些陽離子樹脂對其進行吸附去除,然後再用強酸将吸附的金屬離子洗脫,從而實現淨化溶液的目的。此法要求鉻液含鉻酸濃度不得高于150g/L,且設備投资也較高,樹脂使用壽命也不是太長,因而此法隻在少數的大型企业仍有使用,在此也不作多述。

沉澱法是采用特定的沉澱劑,與金屬離子形成沉澱,然後過濾去除。此類沉澱劑與金屬離子形成的沉澱不應有過多的數量,否則也會因沉澱量過大,難以過濾而變得不太實用。因此我們的研究方法也是采用特定的方法,處理特定的離子。目前,我們在去除銅離子方面已经取得了較好的應用效果。此法在銅件鍍鉻的溶液及銅抛光溶液中,應用更有針對性,後将詳述。

隔膜電解法早期主要是指素燒陶瓷筒電解淨化法。該方法投资少,占地也少,操作簡單易行,以前的期刊中有闡述,在此不作贅述。此法也有不盡如人意之處在于:①電解效率較低,處理速率不是太快。②素燒陶瓷筒内的溶液需定期用硫酸調節,所用硫酸極易進入鍍液,造成鍍液中酸根離子升高較快,需用碳酸鋇進行沉澱去除。网上配资槽對硫酸根較敏感,因此,此方法不太适合于网上配资槽液中使用,而對于硫酸根不太敏感的粗化槽中使用應該還是可以使用的。③素燒陶瓷筒耐鉻酐腐蝕性能不太理想,使用壽命不會太長,一般兩三個月,好的半年左右。④三价鉻降至8g/L時降速不理想。

新型隔膜電解方法主要是采用樹脂材料,有利于克服素燒陶瓷筒的上述缺點而研制的,它的電流效率是素燒陶瓷筒的2-10倍,對于硫酸根有很好的阻擋作用。此法對于网上配资液有很好的處理效果。

沉澱法:

銅件鍍鉻液、銅抛光液,銅的溶解造成鉻液以銅離子为主要雜質,最高可达數十克,采用此法有針對性地去除銅雜質,較其它方法都具更好的效果。

1.沉澱處理的設備裝置

2.沉澱處理的操作方法

Ø分析鍍液中的銅離子含量,以每克銅離子加1克De-copperTM鉻液去銅劑的計算量稱取,并以1:4的比例稀釋溶解于備用槽中。

Ø将鍍液由鍍槽打出至備用槽内,淨置。即1、4、5号閥门開啟,2、3号閥门關閉,打開過濾機過濾。

Ø鍍槽清潔後,将備用槽内上層清液打回至网上配资槽,底層沉澱過濾去除、溶液過濾至鍍槽。即2、3、4号閥门開啟,1、5号閥门關閉,開啟過濾機。

3.注意事項

Ø整個操作應在鍍液溫度低于40℃時進行。

Ø靜置時間为2-12小時左右,不宜太長可太短。

Ø也可在鍍槽内按比例添加去銅劑,靜置後先将上層過濾至清潔的備用槽,沉澱過濾出来後用水洗淨後做成其它銅鹽。

隔膜電解法:

與素燒陶瓷筒的原理相近,新型隔膜電解法實質上是電解與電滲析的組合。它借助隔膜把電解槽分为陰、陽兩極室,通電後隔膜産生離子電遷移與離子交換。同時,電極表面發生氧化還原反應。與素燒陶瓷筒不同之處在于,離子的相互遷移不再隻受電場、和濃差極化控制,且受隔膜阻擋,隻能選擇性通過。

1.電解原理:

1.陽極反應:鉛及其合金陽極闆将三价鉻氧化成六价鉻,氯離子氧化成氯氣,同時析出氧氣。

Cr3­­­­+-3e→Cr6+

2Cl--2e→Cl2↑

4OH--2e→2H2O+O2↑

提高陽極面積有利于将更多的三价鉻氧化成六价鉻。

2.陰極反應:陰極为瓦楞形不鏽鋼闆,陰極室内注入稀硫酸。銅、鐵、鋅等陽離子通過隔膜可以進入陰極室,并在陰極上析出沉積。由于隔膜的選擇性功能,硫酸根無法在陰陽極室内穿過,因此,陰極室内的硫酸根變化相對較小。

Cu2­­­­++2e→Cu

Ni2­­­­++2e→Ni

Fe3­­­­++e→Fe2­­­­+

Fe2­­­­++2e→Fe

2H++2e→H2↑

3.電解裝置

通電後,三价鉻在陽極表面被氧化成六价鉻,而其它金屬雜質如銅、鐵等可以穿過隔膜進入陰極室,因而可以發現陰極室内的溶液由一開始的無色變成了淡藍色或綠色等,陰極表面也有紅色或褐色析出物。

2.隔膜電解工藝參數及操作條件:

1)工藝參數:

Ø隔膜電解池内为10-15%左右硫酸

Ø電壓:5-8V

Ø陰陽極面積比例:1:2以上,越大越好;

Ø電流:正常條件可达5-10A/dm2,考慮溫度可控的情況,可以达15A/dm2。

2)操作條件:

Ø電流:一般来說電流密度越大,離子遷移速度加大,氧化能力強。但考慮到鉻霧、升溫等因素,一般采用5-10A/dm2。

Ø溫度:鍍液溫度一般在50℃左右为好,過低,離子遷移速度慢,處理效果較差,過高鉻霧也大,同時對于隔膜損壞大。

Ø電解時間:由于陰極室内的硫酸根不會遷移至鍍液中,因而對于鍍鉻液,隻要有空閑,多電解對于鍍液總是有好處的。

Ø處理效率:約是現有素燒陶瓷筒效率的2-10倍左右,應該說,它更适合网上配资鉻溶液的電解處理。

3.注意事項

Ø對于陰極室内的硫酸及沉澱物應定期清理,防止孔隙内隔膜被穿透形成鉻層。

Ø應盡量保持陰陽極室内液壓平衡,防止隔膜長期過高的壓力。

Ø停止電解處理時應将電解池清理幹淨後放置在陰涼幹燥處。

Ø切忌尖狀物直碰隔膜。

Ø斷電時應将隔膜電解取出,清潔幹淨。

針對不同鉻液的特點,選擇不同的淨化方式,更经濟,也更有效。鍍鉻液更适合使用此種隔膜電解池。銅抛光液、或鍍銅件較多的鉻液可用De-copperTM鉻液去銅劑。粗化槽可用素燒陶瓷筒更合适。


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